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[[File:Guangke.jpg|缩略图|右| [https://timgsa.baidu.com/timg?image&quality=80&size=b9999_10000&sec=1593069147206&di=1a68151ae947bb3f11220dbe5f4c2572&imgtype=0&src=http%3A%2F%2Fwww.lovehhy.net%2Flib%2Fimg%2F11401815%2F1539315_1551355969.jpg 原图地址]]] '''光刻机'''(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System. 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺); 在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。 <ref>[https://www.cdstm.cn/ 中国数字科技馆]</ref>
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