導覽
近期變更
隨機頁面
新手上路
新頁面
優質條目評選
繁體
不转换
简体
繁體
3.139.240.119
登入
工具
閱讀
檢視原始碼
特殊頁面
頁面資訊
求真百科歡迎當事人提供第一手真實資料,洗刷冤屈,終結網路霸凌。
檢視 物理气相沉积 的原始碼
←
物理气相沉积
前往:
導覽
、
搜尋
由於下列原因,您沒有權限進行 編輯此頁面 的動作:
您請求的操作只有這個群組的使用者能使用:
用戶
您可以檢視並複製此頁面的原始碼。
[[File:物理气相沉积.jpg|缩略图|[https://image.baidu.com/search/detail?ct=503316480&z=0&ipn=d&word=%E7%89%A9%E7%90%86%E6%B0%94%E7%9B%B8%E6%B2%89%E7%A7%AF%20%20%20%E6%90%9C%E7%8B%90&step_word=&hs=0&pn=2&spn=0&di=120&pi=0&rn=1&tn=baiduimagedetail&is=0%2C0&istype=2&ie=utf-8&oe=utf-8&in=&cl=2&lm=-1&st=-1&cs=2543998154%2C1514384581&os=403531062%2C1838809862&simid=71836603%2C897103789&adpicid=0&lpn=0&ln=289&fr=&fmq=1621485582006_R&fm=result&ic=&s=undefined&hd=&latest=©right=&se=&sme=&tab=0&width=&height=&face=undefined&ist=&jit=&cg=&bdtype=15&oriquery=&objurl=https%3A%2F%2Fgimg2.baidu.com%2Fimage_search%2Fsrc%3Dhttp%3A%2F%2F5b0988e595225.cdn.sohucs.com%2Fimages%2F20171123%2F7cc4816251824d4e82cbabd08345fa6f.jpeg%26refer%3Dhttp%3A%2F%2F5b0988e595225.cdn.sohucs.com%26app%3D2002%26size%3Df9999%2C10000%26q%3Da80%26n%3D0%26g%3D0n%26fmt%3Djpeg%3Fsec%3D1624077592%26t%3D1240dd1c46981805bae46bcb8716aec2&fromurl=ippr_z2C%24qAzdH3FAzdH3Fooo_z%26e3Bf5i7_z%26e3Bv54AzdH3FwAzdH3Fdamadb98a_0bcdlm&gsm=1&rpstart=0&rpnum=0&islist=&querylist=&force=undefined 原图链接][https://www.sohu.com/a/206028410_785296 来自搜狐]]] '''物理气相沉积'''(Physical Vapour Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有,真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等。发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、[[陶瓷]]、[[半导体]]、[[聚合物膜]]等。
返回「
物理气相沉积
」頁面