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{| class="wikitable" style="float:right; margin: -10px 0px 10px 20px; text-align:left"
|<center>'''  刘鹏 '''<br><img src="https://www.ime.pku.edu.cn/images/content/2020-10/20201030101739883562.jpg  " width="180"></center><small>[https://www.ime.pku.edu.cn/szll/rygc/l/1319595.htm 北京大学集成电路学院 ]</small> 
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'''刘鹏'''，男，1981年出生，硕士。北京大学集成电路学院教授。
==人物履历==

=== 科研/教育经历 ===

2007年起，专业从事微电子加工工艺研究，主要研究方向是基于电子束光刻工艺的纳尺度图形化技术，和基于高密度等离子体干法刻蚀工艺的纳尺度图形转移技术。
==研究领域==
[[微纳结构制造技术]]

==研究成果==

开发大高宽比纳米结构无硬掩膜制造技术，成功获得AR＞50的6.8nm单晶硅结构，向业界展示了硅基微电子工艺在小尺寸器件研究中的应用能力，为7nm节点下的新器件研究项目提供先导性技术支撑，获IEEE MEMS 2015最佳论文提名；提出基于MEMS技术的电子散射控制方法和束斑调制技术，并基于这一成果提出高精度电子束束斑检测方法，获得国际专利授权；基于光刻胶双重感光特性，提出适用于电子束光刻工艺的紫外固化技术，将显影选择比提高一个量级，成功实现三维纳米形貌控制，拓展了电子束光刻工艺的应用范围，获得专利授权

==科研项目==
纳米加工基础工艺研究重点基金项目，基于电子束光刻的纳机电系统结构工艺方法研究NSFC重大研究计划等。同时，负责纳米加工平台开放服务，为科研项目优化并加工验证器件，典型特征尺寸达到10nm量级。<ref>[https://www.ime.pku.edu.cn/index.htm   北京大学集成电路学院]</ref>
==参考资料== 
{{reflist}}
[[Category:教授]]