檔案:PVD鍍膜設備.jpg檢視原始碼檢視歷史
預覽大小:800 × 600 像素。 其他解析度:320 × 240 像素 | 1,600 × 1,200 像素。
原始檔案 (1,600 × 1,200 像素,檔案大小:273 KB,MIME 類型:image/jpeg)
檔案歷史
點選日期/時間以檢視該時間的檔案版本。
日期/時間 | 縮圖 | 尺寸 | 用戶 | 備註 | |
---|---|---|---|---|---|
目前 | 2023年9月28日 (四) 11:09 | 1,600 × 1,200(273 KB) | Taipei(對話 | 貢獻) | 物理氣相沉積設備/PVD coating equpment/PVD coater/PVD/物理蒸鍍設備/HCD/中空陰極放電鍍膜設備/Ion Plating/離子鍍膜設備 |
檔案用途
下列 15 個頁面連結到此檔案: