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《集成電路與光刻機》，王向朝 等 著，出版社： 科學出版社。

科學出版社是中國最大的綜合性科技出版機構，由前中國科學院編譯局與1930年代創建的有較大影響的龍門聯合書局合併而來。科學出版社比鄰皇城根遺址公園，是一個歷史悠久、力量雄厚，以出版學術書刊為主的開放式出版社。

內容簡介

光刻機是集成電路製造的核心裝備，直接決定了集成電路的微細化水平。《集成電路與光刻機》介紹了集成電路與光刻機的發展歷程；重點介紹了光刻機整機、分系統與曝光光源的主要功能、基本結構、工作原理、關鍵技術等；簡要介紹了計算光刻技術；*後介紹了光刻機成像質量的提升與光刻機整機、分系統的技術進步。

目錄

第1章　集成電路發展歷程

1.1　從電子管到集成電路 3

1.1.1　從電子管到晶體管 3

1.1.2　從晶體管到集成電路 9

1.2　集成電路的發展與摩爾定律 15

1.2.1　摩爾定律的提出 15

1.2.2　集成電路集成度的提升 17

1.2.3　集成電路成本的變化 21

1.2.4　集成電路的後摩爾時代 23

第2章　集成電路製造工藝

2.1　平面工藝 28

2.2　光刻工藝 30

3.1　接近/接觸式光刻機 34

第3章　光刻機技術的發展

3.2　投影光刻機的發展 36

3.2.1　投影光刻機的誕生 36

3.2.2　投影光刻機曝光方式的演變 37

3.2.3　步進掃描投影光刻機的發展 42

3.3　光刻分辨率的提升 45

第4章　光刻機整機系統

4.1　光刻機整機基本結構 50

4.2　光刻機主要性能指標 57

4.2.1　分辨率 57

4.2.2　套刻精度 59

4.2.3　產率 60

4.2.4　性能指標的提升 61

4.3　光刻機的技術挑戰 63

第5章　光刻機曝光光源

5.1　汞燈光源 68

5.2　準分子激光光源 70

5.3　EUV光源 73

第6章　光刻機關鍵分系統

6.1　照明系統 79

6.2　投影物鏡系統 83

6.3　工件台/掩模台系統 88

6.4　調焦調平系統 93

6.5　對準系統 96

第7章　計算光刻

7.1　光學鄰近效應修正 103

7.2　亞分辨輔助圖形技術 104

7.3　光源掩模聯合優化 106

7.4　反演光刻 107

第8章　光刻機成像質量的提升

8.1　光刻機的成像質量與主要性能指標 110

8.1.1　成像質量的影響因素 110

8.1.2　成像質量對光刻機性能指標的影響 111

8.2　光刻機的技術進步與成像質量提升 113

8.2.1　光刻機成像質量與像質控制 113

8.2.2　像質控制與光刻機技術進步 115

參考文獻 121