先進等離子體技術檢視原始碼討論檢視歷史

來自 孔夫子網 的圖片

《先進等離子體技術》，作 者:(意)里卡爾多·達阿戈斯蒂諾 著 劉佳琪 等 譯，定 價:128，出 版 社:中國宇航出版社，出版日期:2021年12月01日，頁 數:404，裝 幀:精裝，ISBN:9787515918952。

書籍是人類進步的階梯，合理閱讀使一個人完善自身的知識結構，全面提升人文素質，為走向成功奠定堅實的基礎。

內容簡介

本書介紹了低氣壓和大氣壓等離子體技術在多個技術領域中的研究進展，由等離子體技術研究領域知名科學家編寫。主要內容包括等離子體在高分子材料、半導體、太陽能電池、生物材料、平面顯示、水處理和火箭推進等技術領域的應用，也包含等離子體生成與控制方法、等離子體源及反應器設計、等離子體診斷、等離子體應用建模和仿真等基礎內容。 本書可供從事等離子體技術和等離子體相關應用技術研究的科技人員參考，也可作為等離子體物理和等離子體相關應用專業研究生的教學參考書。

目錄

第1章等離子體生成與控制的基本方法

1.1等離子體生成

1.1.1低氣壓下的生成(<0.1torr)

1.1.2中氣壓下的生成(0.1～10torr)

1.1.3高氣壓(大氣壓)下的生成(>10torr)

1.2能量控制

1.2.1電子溫度控制

1.2.2離子能量控制

1.3塵埃的收集與清除

致謝

參考文獻

第2章等離子體源與反應器配置

2.1引言

2.2ICP特性

2.2.1原理

2.2.2變壓器模型

2.2.3技術方面

2.3源和反應器的配置

2.3.1基板形狀

2.4結論

參考文獻

第3章工業等離子體應用的高級仿真

3.1引言

3.2PIC仿真

3.2.1電容耦合的Ar/O2等離子體

3.2.2三維(3D)充電仿真

3.3流體仿真

3.3.1電容耦合放電

3.3.2大范國等離子體源

3.4小結

致謝

參考文獻

第4章用於聚合物處理的氮氣放電的建模與診斷

4.1引言

4.2實驗

4.3模型描述

4.4結果與討論

4.4.1電特性

4.4.2氣相化學

4.4.3等離子體與表面的相互作用

4.5結論

參考文獻

第5章用於源和工業過程設計的熱等離子體(射頻與轉移電弧)的三維建模

5.1引言

5.2感應耦合等離子體炬

5.2.1建模方法

5.2.2選定的仿真結果

5.3直流轉移電弧等離子體炬

5.3.1建模方法

5.3.2選擇的仿真結果

參考文獻

第6章用於半導體處理的射頻等離子體源

6.1引言

6.2電容耦合等離子體

6.2.1雙頻CCP

6.3電感耦合等離子體

6.3.1基本描述

6.3.2反常趨膚深度

……

第7章用於薄膜沉積的先進等離子體診斷

第8章電極非對稱配置低頻放電的聚合物材料等離子體處理

第9章碳氟化合物薄膜等離子體沉積的基礎

第10章硅薄膜太陽能電池的等離子體化學氣相沉積(CVD)工藝

第11章用於太陽能電池的甚高頻(VHF)等離子體生成

第12章在反應等離子體中的團簇生長控制及其在高穩定性a-Si：H薄膜沉積中的應用

第13章生物材料等離子體工藝中的微納米結構：微納米功能是解決選擇性生物反應的有效工具

第14章在生物醫學應用的等離子體改性基板上化學固化生物分子

第15章評估等離子體改性表面生物相容性的體外方法

第16章生物醫學中的冷氣等離子體

第17章低壓等離子體殺菌消毒與表面淨化的機理

第18章大氣壓輝光等離子體的應用：大氣壓輝光等離子體中的粉末塗層

第19章在大氣壓輝光介質阻擋放電中碳氫聚合物與碳氟聚合物薄膜的沉積

第20章關於現代應用的大氣壓非熱等離子體生成的評述

第21章等離子體彩色顯示的現狀與未來

第22章PDP等離子體特性

第23章等離子體噴塗工藝的近期新進展

第24章電解液放電直接等離子體水處理工藝

第25章先進空間推進技術的發展與物理問題