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磁控溅射镀膜
移除 10 位元組
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2 年前
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rollbackEdits.php mass rollback
是将涂层材料做为靶阴极,利用[[氩离子轰击靶材]],产生阴极溅射,把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种[[镀膜技术]],涂层材料一直保持[[固态]],不形成[[熔池]]。
== 02 ==
== 磁控溅射镀膜的原理 ==
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