計算光刻與版圖優化檢視原始碼討論檢視歷史

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《計算光刻與版圖優化》，韋亞一等 著，無 編，出版社： 電子工業出版社。

電子工業出版社成立於1982年10月，是工業和信息化部直屬的科技與教育出版社，每年出版新書2400餘種，音像和電子出版物400餘種，期刊8種，出版物內容涵蓋了信息科技的各個專業分支以及工業技術、經濟管理、大眾生活、少兒科普等領域，綜合出版能力位居全國出版行業前列。

內容簡介

光刻是集成電路製造的核心技術，光刻工藝成本已經超出集成電路製造總成本的三分之一。在集成電路製造的諸多工藝單元中，只有光刻工藝可以在硅片上產生圖形，從而完成器件和電路三維結構的製造。計算光刻被公認為是一種可以進一步提高光刻成像質量和工藝窗口的有效手段。基於光刻成像模型，計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優化，對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正，還可以從工藝難度的角度對設計版圖提出修改意見，*終保證光刻工藝有足夠的分辨率和工藝窗口。本書共7章，首先對集成電路設計與製造的流程做簡要介紹，接着介紹集成電路物理設計（版圖設計）的全流程，然後介紹光刻模型、分辨率增強技術、刻蝕效應修正、可製造性設計，*後介紹設計與工藝協同優化。本書內容緊扣先進技術節點集成電路製造的實際情況，涵蓋計算光刻與版圖優化的發展狀態和未來趨勢，系統介紹了計算光刻與刻蝕的理論，論述了版圖設計與製造工藝的關係，以及版圖設計對製造良率的影響，講述和討論了版圖設計與製造工藝聯合優化的概念和方法論，並結合具體實施案例介紹了業界的具體做法。本書不僅適合集成電路設計與製造領域的從業者閱讀，而且適合高等院校微電子相關專業的本科生、研究生閱讀和參考。

作者介紹

韋亞一博士，中國科學院微電子研究所研究員，中國科學院大學微電子學院教授，博士生導師。1998年畢業於德國Stuttgart大學/馬普固體研究所，師從諾貝爾物理獎獲得者馮·克利津（Klaus von Klitzing），獲博士學位。韋亞一博士長期從事半導體光刻設備、材料、軟件和製程研發，取得了多項核心技術，發表了超過90篇的專業文獻。韋亞一博士在中國科學院微電子研究所創立了計算光刻研發中心，從事20nm以下技術節點的計算光刻技術研究，其研究成果被廣泛應用於國內FinFET和3D NAND的量產工藝中。

粟雅娟博士，中國科學院微電子研究所研究員，碩士生導師。2005年畢業於清華大學，獲博士學位。粟雅娟博士主要從事設計工藝協同優化、計算光刻等領域的研究。發表SCI/EI學術論文30餘篇，申請專利10餘項。其研究成果被應用於國內設計和製造企業的設計工藝協同優化中。

董立松博士，中國科學院微電子研究所副研究員，碩士生導師。2014年畢業於北京理工大學，獲博士學位。董立松博士主要從事光刻成像理論、分辨率增強、SMO、OPC等技術的研究工作。發表SCI/EI學術論文30餘篇，申請專利10餘項。

張利斌博士，中國科學院微電子研究所副研究員，碩士生導師。2014年畢業於中國科學院大學(中國科學院半導體研究所)，獲工學博士學位。主要從事光刻工藝和測量的表徵和建模等研究工作。共發表學術論文40餘篇，申請專利10餘項。

陳睿博士，中國科學院微電子研究所副研究員，碩士生導師。 2015年畢業於美國紐約州立大學布法羅分校，獲博士學位。陳睿博士主要從事先進技術節點光刻工藝、刻蝕與沉積工藝仿真等領域的研究。發表SCI/EI學術論文30餘篇，申請專利20餘項。研究成果被應用於國內外先進制造企業的工藝研發和生產中。

趙利俊博士，2018年畢業於中國科學院微電子研究所獲工學博士學位，同年加入長江存儲。博士及工作期間主要從事SMO、OPC及數字電路物理設計等工作。發表學術論文8篇，申請專利5項。