等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用檢視原始碼討論檢視歷史

《等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用》，張海洋 等 著，出版社： 清華大學出版社。

清華大學出版社成立於1980年6月，是教育部主管、清華大學主辦的綜合性大學出版社。清華社先後榮獲 「先進高校出版社」「全國優秀出版社」「全國百佳圖書出版單位」「中國版權最具影響力企業」「首屆全國教材建設獎全國教材建設先進集體」等榮譽。

內容簡介

《等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用（第2版）（高端集成電路製造工藝叢書）》共10章，基於公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業中的應用及潛在發展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發展史開篇，對傳統及已報道的先進等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹，隨後是占據了該書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外，還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯繫，聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。最後是先進過程控制技術在等離子體蝕刻應用方面的重要性及展望，以及虛擬製造在集成電路發展中的應用。 　　 《等離子體蝕刻及其在大規模集成電路製造中的應用（第2版）（高端集成電路製造工藝叢書）》可以作為從事等離子體蝕刻工藝研究和應用的研究生和工程技術人員的參考書籍。

作者介紹

張海洋，休斯敦大學化工系博士。現任中芯國際集成電路製造（上海）有限公司技術研發中心蝕刻部門主管，教授級高級工程師,享受國務院政府特殊津貼。專注於先進集成電路製造中成套等離子體蝕刻工藝研發以及國產蝕刻機台在高端邏輯製程中的驗證。入選國家萬人計劃領軍人才、科技部中青年科技創新領軍人才、上海市先進技術帶頭人計劃。持有半導體製造領域國際專利八十餘項，指導發表國際會議文章6０篇。