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郑立荣

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郑立荣，研究领域是工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学，在中国科学院上海冶金研究所工作。
==简介==
【姓名】郑立荣

【职称】

【研究领域】

【研究方向】

【发表文献关键词】

【工作单位】中国科学院上海冶金研究所

【曾工作单位】中国科学院上海冶金研究所;

【所在地域】上海
{{Infobox person
| 姓名 = 郑立荣
| 图像 =
| 图像说明 = [https://p1.ssl.qhmsg.com/t018c054762c9c36b50.jpg 原图链接] [https://baike.so.com/doc/1754843-1855643.html 来自360网]]]
| 国籍 =中国
| 别名 =
| 职业 =工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
| 知名于 = <br>
}}
学术成果
中国期刊全文数据库共16篇

[1]曾建明,张苗,高剑侠,宋志棠,郑立荣,王连卫,林成鲁.钛酸铋薄膜的室温脉冲激光沉积研究[J]压电与声光.1999,(02)

[2]曾建明,林成鲁,郑立荣.O~+注入SrBi_2Ta_2O_9铁电薄膜的研究[J]压电与声光.1999,(03)

[3]林成鲁,王连卫,陈向东,沈勤我,郑立荣,倪如山.硅上β-FeSi_2的超高真空镀膜外延及其光学性质研究[J]光电子·激光.2000,(03)

[4]陈逸清，郑立荣，林成鲁，邹世昌.脉冲准分子激光PZT薄膜的制备[J]中国激光.1994,(08)

[5]陈逸清,郑立荣,张顺开,林成鲁,邹世昌.脉冲准分子激光PZT铁电薄膜沉积及其特性研究[J]科学通报.1995,(01)

[6]郑立荣，陈逸清，林成鲁，邹世昌.新型铁电存贮器和铁电薄膜的脉冲激光沉积[J]物理.1995,(01)

[7]郑立荣，陈逸清，许华平，辛火平，宋世庚，林成鲁.Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积[J]功能材料与器件学报.1995,(02)

[8]郑立荣，陈逸清，张顺开，林成鲁，邹世昌.SOI上PZT铁电薄膜的脉冲准分子激光沉积及其快速退火研究[J]半导体学报.1996,(03)

[9]郑立荣,林成鲁,许华平,邹世昌,奥山雅则.铁电薄膜的漏电行为及其电滞回线形变[J]中国科学E辑:技术科学.1996,(06)

[10]许华平，郑立荣，陈逸清，林成鲁，邹世昌.集成铁电存储器──新型快速、抗辐照、非挥发性存储器件[J]微电子学与计算机.1996,(01)
== 相关视频 ==
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04-基於SKChain技術架構的應用創新(鄭立榮)

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