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超大规模集成电路

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小规模集成电路于1960年出现,在一块硅片上包含10-100个元件或1-10个逻辑门。如 逻辑门和触发器等。如果用小规模数字集成电路(SSI)进行设计组合逻辑电路时,是以门电路作为电路的基本单元,所以逻辑函数的化简应使使用的门电路的数目最少,而且门的输入端数目也最少。
中规模集成电路(Medium Scale Integration:MSI)
1966年出现,在一块硅片上包含100-1000个元件或10-100个逻辑门。如 : [[ 集成计时器 ]] [[ 寄存器 ]] [[ 译码器 ]] 等。
如果选用中规模集成电路(MSI)设计组合逻辑电路时,则以所用集成电路个数最少,品种最少,同时集成电路间的连线也最少。这往往需将逻辑函数表达式变换成选用电路所要求的表达形式,有时可直接用标准范式。
MSI中规模组合逻辑器件功能虽然比小规模集成电路SSI强,但也不像大规模集成电路LSI那样功能专一化,这些器件产品的品种虽然不少,但也不可能完全符合使用者的要求,这就需要将多片级联以扩展其功能,而且还可以用一些标准的中规模继承组件来实现其它一些组合逻辑电路的设计。用中规模集成组件来进行组合逻辑电路设计时,其方法是选择合适的MSI后,将实际问题转化后的逻辑表达式变换为响应的MSI的表达形式。用MSI设计的组合逻辑电路与用门电路设计的组合逻辑电路相比,不仅体积小,重量较轻,而且提高了工作的可靠性。
ULSI电路集成度的迅速增长主要取决于以下两个因素:一是晶体生长技术已达到极高的水平;二是制造设备不断完善,加工精度、自动化程度和可靠性的提高已使器件尺寸进入深亚微米级领域。硅单晶制备技术可使晶体径向参数均匀,体内微缺陷减少,0.1~0.3um大小的缺陷平均可以少于0.05个/平方厘米。对电路加工过程中诱生的缺陷理论模型也有了较为完整的认识,由此发展了一整套晶体的加工工艺。生产电路用的硅片直径的不断增大,导致生产效率大幅度提高,硅片的直径尺寸已达到12英寸。微缺陷的减少使芯片成品率增加,0.02个/平方厘米缺陷的硅片可使256MB DRAM的成品率达到80~90%。
巨大规模集成电路(Giga Scale Integration:GSI)
1994年由于集成1亿个元件的1G DRAM的研制成功,进入[[ 大规模集成电 路GSI]] GSI (Giga Scale Integration)时代。巨大规模集成电路的集成组件数在109以上。 <ref>[https://www.163.com/dy/article/G6RBKG7T0531PW97.html 超大规模集成电路中的可测试性设计(DFT)]网易订阅</ref>
== 发展现状 ==
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